低溫恒溫槽用途：可在機內水槽進行恒溫實驗，或通過軟管與其他設備相連，作為恒溫源配套使用。泛用于石油、化工、電子儀表、物理、化學、生物工程、醫藥衛生、生命科學、輕工食品、物性測試及化學分析等研究部門，高等院校，企業質檢及生產部門，為用戶工作時提供一個熱冷受控，溫度均勻恒定的場源，對試驗樣品或生產的產品進行恒定溫度試驗或測試，也可作為直接加熱或制冷和輔助加熱或制冷的熱源或冷源。

低溫制冷循環水溫機廣泛用于各種實驗研究用儀器及工業生產用設備發熱部的冷卻恒溫作用分析儀器：原子吸收、質譜儀、旋光儀。 醫療設備：降溫毯。工業設備及激光設備： 生物制藥。 科學實驗設備：分子泵旋轉蒸發儀、蒸餾器、發酵裝置、激光器、金屬快速成型裝置、真空鍍膜機。

智能低溫恒溫槽產品說明：采用機械全封閉制冷降溫速度快，控溫精度準。壓縮機高低壓，壓縮機過熱，電流負載等多重保護確保安全可靠。

低溫制冷循環器采用全密閉設計，低溫運行過程無吸水，保證冷導熱介質的純度，防止冰晶，提供導熱液壽命。高性能循環泵，可保證每天連續24小時運行。

制冷循環低溫冷凍機半導體制造裝置發熱部的冷卻：單晶片洗凈轉載、印刷機、自動夾座安裝裝置、噴涂裝置、離子鍍裝置、蝕刻裝置、單晶片處理裝置、切片機、包裝機、顯影劑的溫度管理、露光裝置、生磁部分的加熱裝置等。對激光裝置發熱部分的冷卻：激光加工、熔接機的發熱部分、激光標志裝置、發生裝置、二氧化碳激光加工機等。

低溫制冷循環器使用范圍：對半導體制造裝置發熱部的冷卻：單晶片洗凈轉載、印刷機、自動夾座安裝裝置、噴涂裝置、離子鍍裝置、蝕刻裝置、單晶片處理裝置、切片機、包裝機、顯影劑的溫度管理、露光裝置、生磁部分的加熱裝置等。對激光裝置發熱部分的冷卻：激光加工、熔接機的發熱部分、激光標志裝置、發生裝置、二氧化碳激光加工機等。